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s 电子芯片制造前置多介质过滤器

电子芯片制造前置多介质过滤器

电子芯片制造前置多介质过滤器

多介质过滤器采用超高精度多层滤料过滤技术,针对芯片制造超纯水制备严苛需求,选用高纯无杂质滤料,高效去除原水中的颗粒物、胶体、微生物、铁锈、重金属氧化物等污染物,彻底阻断杂质进入后续超纯水制备系统;系统

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产品介绍

原理介绍

多介质过滤器采用超高精度多层滤料过滤技术,针对芯片制造超纯水制备严苛需求,选用高纯无杂质滤料,高效去除原水中的颗粒物、胶体、微生物、铁锈、重金属氧化物等污染物,彻底阻断杂质进入后续超纯水制备系统;系统配备PLC精密控制,自动实现过滤、反冲洗、排污全流程,保障超纯水前端预处理极致洁净。

性能特点

多介质过滤器采用316L镜面抛光不锈钢材质,无任何离子析出、无二次污染,完全契合芯片行业超高水质标准;多层精细过滤,杂质去除率高达99.5%,极致保护后续RO、EDI精密组件,延长其使用寿命;全自动智能化运行,可远程监控、故障自动报警,运行零失误;设备高压工况下运行稳定,承压性优异,维护频次极低,适配芯片行业高标准、不间断生产需求。

应用领域

多介质过滤器核心应用于半导体、芯片制造行业超纯水系统前端精密预处理,适配晶圆加工、芯片蚀刻、清洗等高精工序用水净化,是芯片生产净水处理的核心前置设备。

品牌 优势

服务流程 一站式服务

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